對尼康而言，幸好該廠平面顯示器用生產(chǎn)設(shè)備產(chǎn)品銷路仍佳，現(xiàn)在大陸正在大規(guī)模建造液晶面板工廠，接下來韓國、日本、與大陸又要投入OLED面板設(shè)廠，因此在2020年以前，尼康的半導體設(shè)備事業(yè)，可以靠面板廠需求，繼續(xù)維持。

　　半導體曝光裝置需要三種關(guān)鍵技術(shù)，他們決定著整個系統(tǒng)的性能。

　　第一，“投影透鏡的分辨率”。鏡頭的分辨能力越高，能通過光學系統(tǒng)傳輸?shù)碾娐穲D形就越復(fù)雜。為了提高鏡頭的性能，尼康嚴格管理從混合鏡頭原材料、分解、研磨、上涂層到組裝的整個生產(chǎn)過程。

　　第二，“對準精度”。制作一個半導體必須對光罩進行幾十次替換，并在曝光過程中對電路圖形進行反復(fù)刻錄。因此每次絲毫不差地對準晶片和光罩至關(guān)重要。為此尼康使用多個傳感器以對光罩和晶片進行精確定位。

　　第三，“產(chǎn)量”。大規(guī)模生產(chǎn)半導體時，這一技術(shù)十分重要。產(chǎn)量是產(chǎn)能的一個指標，即一小時內(nèi)可曝光晶片的數(shù)量。為了在同一個晶片上實現(xiàn)最大數(shù)量的半導體曝光，尼康技術(shù)實現(xiàn)了晶片臺的高速移動，并準確停在位置，從而提高生產(chǎn)率。

　　通過將這三種技術(shù)結(jié)合，尼康半導體曝光裝置是迄今為止格外精密的設(shè)備。

　　而且，尼康的顯示器面板生產(chǎn)裝置，還有多透鏡系統(tǒng)，可透過同時控制多面透鏡的動作，制造大型高精密度面板，在面板不斷大型化的現(xiàn)在，算是熱門商品。自誕生以來，半導體的體積極速小型化，同時可搭載的功能也越來越多。隨著半導體的不斷進化，尼康亦持續(xù)開發(fā)具有更高分辨率的曝光技術(shù)以滿足其日趨小型化趨勢。但是當小型化發(fā)展到一定程度，如何使其更小型化，在技術(shù)上碰到了理論瓶頸。最終尼康在半導體曝光技術(shù)中采用了液浸式曝光技術(shù)，打破了僵局。